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对等离子体与物体表面发生的物理反应和化学反应进行认识

浏览量:166 作者:admin 日期:2021-09-07

  在我们进行等离子前处理的清洗工艺当中,等离子清洗机目前无疑成为了现在市场的主流。而等离子清洗机的核心就是通过等离子体对物体的表面进行反应来进行清洗清洗。那么等离子体在对物体表面清洗的过程中,发生的物理反应和化学反应又是怎么回事呢?那接下来让小编Rogen带你来认识一下吧!
 

对等离子体与物体表面发生的物理反应和化学反应进行认识
 

  等离子体与固体表面的反应可分为物理反应和化学反应:
 

  1、物理反应
 

  物理反应机制是活性颗粒轰击待清洁表面,使污染物脱离表面,最终被真空泵吸走;
 

  以物理反应为主的等离子反应为中心的等离子体清洗,其优点是自身没有化学反应,清洗表面没有氧化物,能够维持被清洗物的化学纯度的缺点是对表面造成很大的损伤,产生很大的热效应,对被清洗表面的各种物质的选择性差,腐蚀速度低。
 

  2、化学反应
 

  化学反应机制是各种活性颗粒和污染物反应产生挥发性物质,然后由真空泵吸走挥发性物质。
 

  以化学反应为中心的等离子体清洗的优点是清洗速度高,选择性好,有效去除有机污染物,缺点是表面产生氧化物。与物理反应相比,化学反应的缺点难以克服。
 

  而且,两种反应机制对表面微观形态的影响明显不同,物理反应可以使表面在分子级范围内更加粗糙,改变表面的粘接特性。
 

  另一种等离子体清洗在表面反应机制中起着物理反应和化学反应的要作用,即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀。两种清洗可以相互促进。离子轰击会损坏被清洗表面,削弱其化学键或形成原子状态,容易吸收反应剂。离子碰撞会加热被清洗的物体,使其更容易反应。其效果是选择性、清洗率、均匀性和方向性好。
 

  常见的等离子物理清洗工艺是氩等离子清洗。氩本身就是惰性气体,等离子体的氩不与表面发生反应,而是通过离子轰击使表面干净。常见的等离子化学清洗工艺是氧等离子清洗。由等离子产生的氧自由基非常活跃,易与碳氢化合物发生反应,产生二氧化碳、一氧化碳和水等挥发性物质,从而去除表面污染物。
 

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